友浩车联：求真务实主动作为，行业领先专注发展

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行先专（h-i）沿Al2O3101¯0和112¯0方向生长的MoS2/Al2O3界面的横截面HAADF-STEM图像。友浩业领（b）C/A和C/M基板上成核阶段的四种可能的边缘配置。

车联文献链接：Epitaxialgrowthofwafer-scalemolybdenumdisulfidesemiconductorsinglecrystalsonsapphire.NatrueNanotechnology,2021,DOI:10.1038/s41565-021-00963-8.本文由CQR编译。主动作为注发展（d）C/A基底上两个合并的MoS2畴的极化SHG映射。